[发明专利]一种低蚀刻的去除光阻残留物的清洗液有效
| 申请号： | 201510999612.0 | 申请日： | 2015-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN106919013B | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | 何春阳;刘兵;王鹏程 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种用于去除光阻残留物的清洗液及其组成。这种去除光阻残留物的清洗液含有(a)季胺氢氧化物(b)醇胺(c)有机溶剂(d)C |
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| 搜索关键词： | 一种 蚀刻 去除 残留物 清洗 | ||
【主权项】：
一种低蚀刻的去除光阻残留物的清洗液，包含，季胺氢氧化物，醇胺以及有机溶剂，其特征在于，还包含C2‑C6多元醇和咪唑及其衍生物。
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