[发明专利]一种高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂及其使用方法在审
申请号: | 201511000449.9 | 申请日: | 2015-12-24 |
公开(公告)号: | CN105419972A | 公开(公告)日: | 2016-03-23 |
发明(设计)人: | 徐前进;汪小龙 | 申请(专利权)人: | 东莞市安美润滑科技有限公司 |
主分类号: | C11D1/83 | 分类号: | C11D1/83;C11D1/94;C11D3/60;C11D3/04;C11D3/30;C11D3/20;C11D3/33;C11D3/37 |
代理公司: | 广州天河恒华智信专利代理事务所(普通合伙) 44299 | 代理人: | 姜宗华 |
地址: | 523808 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂,清洗剂原材料包括:无机碱2~10%、有机胺2~10%、聚醚5~10%、乙醇5~15%、丙二醇5~10%、螯合剂4~12%、阴离子表面活性剂1~10%、特种表面活性剂2~4%、非离子表面活性剂2~6%、去离子水40~70%。高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂具有低碱含量,不腐蚀玻璃,无污染,作业性好,对员工皮肤无损伤,有效的保障操作人员的健康和安全。 | ||
搜索关键词: | 一种 洁净 腐蚀 光学玻璃 洗剂 及其 使用方法 | ||
【主权项】:
一种高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂,其特征在于:所述高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂原材料包括:无机碱2~10%、有机胺2~10%、聚醚5~10%、乙醇5~15%、丙二醇5~10%、螯合剂4~12%、阴离子表面活性剂1~10%、特种表面活性剂2~4%、非离子表面活性剂2~6%、去离子水40~70%。
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