[发明专利]一种光场偏折术测量系统标定镜及其应用方法在审

专利信息
申请号: 201511004270.0 申请日: 2015-12-29
公开(公告)号: CN105403173A 公开(公告)日: 2016-03-16
发明(设计)人: 贾君慧;张旭;李晨 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: G01B11/25 分类号: G01B11/25
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 何文欣
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于光学测量领域,涉及一种光场偏折术测量系统标定镜及其应用方法。本标定镜用于标定光场偏折术系统的位姿关系,用于标定相机5和双层光平面调制器间3和4的关系以及双层光平面调制器3和4间的关系,包括一个标定镜其镜面由标准棋盘格镜面和反射镜面并联组成;即将棋盘格刻画在一个平面反射镜的一部分上,使其具有标定棋盘格和反射功能;所述标定方法分为普通相机标定法和光场相机标定法。所述标定方法只需一次拍摄即可完成所有位姿关系的标定,具有操作简单容易操作,精度高等优点。所述光场相机标定法填补了国内外关于光场偏折术测量系统光场相机模式下标定的空白,为光场偏折术测量系统测量高反射物体提供了基础。
搜索关键词: 一种 光场偏折术 测量 系统 标定 及其 应用 方法
【主权项】:
一种光场偏折术测量系统标定镜,用于标定光场偏折术系统的位姿关系,包括一个反射镜,其特征在于:所述反射镜的镜面由棋盘格镜面(1)和反射镜面(2)两部分相并联组成,即将棋盘格刻画在一个平面反射镜镜面的一部分上,使其具有标定棋盘格和反射功能;适用于标定相机和双层光平面调制器间的关系以及双层光平面调制器间的关系。
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