[发明专利]一种LED外延结构及制作方法有效

专利信息
申请号: 201511011151.8 申请日: 2015-12-30
公开(公告)号: CN105428482B 公开(公告)日: 2018-09-11
发明(设计)人: 杜成孝;郑建森;张洁;徐宸科 申请(专利权)人: 厦门市三安光电科技有限公司
主分类号: H01L33/12 分类号: H01L33/12;H01L33/06;H01L33/32;H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 361009 福建省厦*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明提供一种LED外延结构及制作方法,从下至上依次包括:衬底、第一导电类型半导体层、应力释放层、量子阱层以及第二导电类型半导体层,其中在所述应力释放层中插入一低温低Al组分的AlxGa1‑xN层,x取值范围为0.1%≤x≤1%,或者是所述应力释放层为InGaN、GaN、AlGaN组成的超晶格层,从而改善述应力释放层的应力释放能力,改善电压及Droop效应,并提升亮度。
搜索关键词: 一种 led 外延 结构 制作方法
【主权项】:
1.一种LED外延结构,从下至上依次包括:衬底、第一导电类型半导体层、应力释放层、量子阱层以及第二导电类型半导体层,其特征在于:所述应力释放层为GaN层或InGaN/GaN超晶格层,在所述应力释放层中插入一低Al组分的AlxGa1‑xN层,其中x取值范围为0.1%≤x<1%。
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