[发明专利]通过蛇形位移放大结构测量逆挠曲电系数的装置及方法有效
| 申请号： | 201511016532.5 | 申请日： | 2015-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN105424517B | 公开（公告）日： | 2018-10-19 |
| 发明（设计）人： | 刘开园;徐明龙;张舒文;申胜平;王铁军;武彤晖;周媛 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | G01N3/38 | 分类号： | G01N3/38;G01B11/02;G01B11/16 |
| 代理公司： | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人： | 何会侠 |
| 地址： | 710049*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 通过蛇形位移放大结构测量逆挠曲电系数的装置及方法，该装置包括导轨，设置在导轨上的多个绝缘滑块，绝缘滑块相邻的两两之间的上部或下部粘结有半圆弧挠曲电材料，最后一根绝缘滑块上粘结有四分之一圆弧挠曲电材料，半圆弧挠曲电材料和四分之一圆弧挠曲电材料形成蛇形位移放大结构；激光位移计将激光打在四分之一圆弧挠曲电材料的端面上，蛇形位移放大结构的上下表面涂有驱动电极，驱动电极与高压电源连接，高压电源与信号源连接；通过信号源向高压电源输送信号使蛇形位移放大结构受到均匀电场梯度而产生形变，导轨使产生的横向位移累加，通过激光位移计来测量四分之一圆弧挠曲电材料端面位移的变化情况，结合材料的力电参数，便可计算得到该挠曲电材料的逆挠曲电系数。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 蛇形 位移 放大 结构 测量 挠曲 系数 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.通过蛇形位移放大结构测量逆挠曲电系数的装置，其特征在于：包括导轨(1)，设置在导轨(1)上的多个绝缘滑块(4)，其中设置在导轨(1)端部的绝缘滑块(4)固定不动，绝缘滑块(4)与导轨(1)之间涂有润滑油，所述绝缘滑块(4)相邻的两两之间的上部或下部粘结有半圆弧挠曲电材料(2)，导轨(1)上远离端部的绝缘滑块(4)的最后一根绝缘滑块(4)上粘结有四分之一圆弧挠曲电材料(3)，所述半圆弧挠曲电材料(2)和四分之一圆弧挠曲电材料(3)形成蛇形位移放大结构；激光位移计(6)将激光打在四分之一圆弧挠曲电材料(3)的端面上，半圆弧挠曲电材料(2)和四分之一圆弧挠曲电材料(3)的上下表面涂有驱动电极(5)，驱动电极(5)与高压电源(7)连接，高压电源(7)与信号源(8)连接。
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