[发明专利]光刻机拼接照明系统及其调整方法有效
| 申请号： | 201511022036.0 | 申请日： | 2015-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN106933040B | 公开（公告）日： | 2019-11-26 |
| 发明（设计）人： | 束奇伟 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 屈蘅;李时云<国际申请>=<国际公布>= |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻机拼接照明系统及其调整方法，该光刻机拼接照明系统包括：沿光传播方向依次设置的照明单元、多个光强透过率调节器件、多组单元物镜、视场光阑以及安装在基板运动台上的光强测量传感器，所述视场光阑为可调视场光阑。本发明通过设置可调视场光阑，不需要调整任何参与成像的镜片即可实现多镜头光刻机基板面的视场位置的调整，操作方便，调节快速。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 拼接 照明 系统 及其 调整 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机拼接照明系统，包括：沿光传播方向依次设置的照明单元、多个光强透过率调节器件、多组单元物镜、视场光阑以及安装在基板运动台上的光强测量传感器，所述单元物镜包括上层结构和下层结构，所述视场光阑位于所述上层结构与所述下层结构之间，其特征在于，所述视场光阑为可调视场光阑，通过调整所述可调视场光阑的位置调节基板运动台上的可拼接视场。/n
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