[发明专利]无铬光刻板在审
| 申请号： | 201511022964.7 | 申请日： | 2015-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN105607410A | 公开（公告）日： | 2016-05-25 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 梁旭 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266000 山东省青岛市*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及无铬光刻板，它包括石英基板，石英基板的上表面的预定位置制作有光刻图形，光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面。优选地，石英基板的下表面的对应位置制作有相同的光刻图形，光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面，其中，位于石英基板的上表面与下表面的光刻图形的垂直投影相互重合。本发明解决了现有技术中的缺陷，实现仅通过使用石英材料本身来制作掩模图形，从而减少光刻板在重复使用过程中的图形失真。 | ||
| 搜索关键词： | 无铬光 刻板 | ||
【主权项】：
一种无铬光刻板，它包括石英基板，其特征在于：所述的石英基板的上表面的预定位置制作有光刻图形，所述的光刻图形的顶部覆盖有粗化散射表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于梁旭，未经梁旭许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201511022964.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
