[发明专利]光刻成像系统及其投影曝光方法有效
| 申请号： | 201511024258.6 | 申请日： | 2015-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN106933043B | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | 孙文凤 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/03 |
| 代理公司： | 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 屈蘅;李时云<国际申请>=<国际公布>= |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻成像系统及其投影曝光方法，该光刻成像系统包括：光源、照明组件、掩模和投影物镜，所述照明组件与掩模之间和/或投影物镜与硅片之间设置有偏振补偿装置，所述投影物镜的像面上设置有远心检测装置，所述偏振补偿装置和远心检测装置分别连接至偏振控制单元。本发明通过在照明组件与投影物镜和/或投影物镜与像面之间直接加入偏振补偿装置，改变了投影物镜的偏振输入，对光刻成像系统进行偏振补偿，改善了系统传输特性，达到了提高投影成像光刻分辨率的目的；此外，在光刻成像系统中加入偏振补偿器件，不影响原照明组件和投影物镜的技术参数，因此可以在设计制造光刻曝光系统时就考虑加入，使光刻成像系统的设计简单方便。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 成像 系统 及其 投影 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻成像系统，包括光源、照明组件、掩模和投影物镜，其特征在于，所述照明组件与掩模之间和/或投影物镜与硅片之间设置有偏振补偿装置，所述偏振补偿装置用于调整光瞳均匀性，所述投影物镜的像面上设置有远心检测装置，所述远心检测装置用于检测各个视场点的远心，所述偏振补偿装置和所述远心检测装置分别连接至偏振控制单元。/n
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