[发明专利]调焦调平的离焦倾斜补偿装置与方法有效
| 申请号： | 201511024259.0 | 申请日： | 2015-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN106933044B | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 顾俊;王海江 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种调焦调平的离焦倾斜补偿装置与方法，该装置包括：照明单元、投影单元、探测单元及中继单元，所述投影单元包括投影狭缝整列，该投影狭缝阵列包括若干用于形成精测试光斑的第一狭缝，和设置在所述第一狭缝周围用于形成倾斜测试光斑的第二狭缝，所述第二狭缝沿调节调平系统的投影方向设置。本发明在沿着调焦调平系统的投影方向在第一狭缝的附近增加第二狭缝，进而在精测试光斑周围增设倾斜测试光斑，从而改变光斑布局，通过该倾斜测试光斑实现对硅片面上每个精测试光斑沿调焦调平系统投影方向的倾斜量进行实时测量，并使用软件模块根据倾斜量对单点的测量结果进行补偿。 | ||
| 搜索关键词： | 调焦 倾斜 补偿 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种调焦调平的离焦倾斜补偿装置，包括：照明单元、投影单元、探测单元及中继单元，其特征在于，所述投影单元包括投影狭缝阵列，该投影狭缝阵列包括若干用于形成精测试光斑的第一狭缝，和设置在所述第一狭缝周围用于形成倾斜测试光斑的第二狭缝，所述第二狭缝沿调焦调平系统的投影方向设置,所述照明单元发射出波长不同的第一照明光束和第二照明光束，其中第一照明光束将所述第一狭缝投影到硅片上，所述第二照明光束将所述第二狭缝投影到硅片上。
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