[发明专利]一种调焦调平测量系统及其校准方法

摘要

本发明涉及一种调焦调平测量系统及其校准方法，该系统包括测量分系统和校准分系统，测量分系统包括第一照明单元、第一投影单元、第一探测透镜组及第一调焦探测器，校准分系统包括第二照明单元、第二投影单元、第二探测透镜组及第二调焦探测器，测量分系统与校准分系统关于硅平面的上表面呈轴对称分布，第一照明单元发出的光源经所述第一投影单元入射至硅平面的上表面，经反射后入射至第一探测透镜组并被第一调焦探测器接收；第二照明单元发出的光源经第二投影单元入射至硅平面的下表面，经反射后入射至第二探测透镜组并被第二调焦探测器接收。本发明在同一个系统中设置两套三角测量装置，能够进行交叉测量，从而快速识别漂移部位并进行有效补偿。

主权项

1.一种利用调焦调平测量系统进行校准的校准方法，其特征在于，所述调焦调平测量系统包括测量分系统和校准分系统，所述测量分系统沿光路传播方向依次包括第一照明单元、第一投影单元、第一探测透镜组以及第一调焦探测器，所述校准分系统沿光路传播方向依次包括第二照明单元、第二投影单元、第二探测透镜组以及第二调焦探测器，所述测量分系统与所述校准分系统关于硅平面的上表面呈轴对称分布，所述校准方法包括如下步骤：S1：当所述硅平面存在，第一调焦探测器探测第一投影单元的位置信息，第二调焦探测器探测第二投影单元的位置信息，记为第一工况，记录此时第一投影单元与第一调焦探测器，以及第二投影单元与第二调焦探测器的相对初始位置信息；S2：将所述硅平面移除，所述第二调焦探测器接收第一投影单元的位置信息，第一调焦探测器接收第二投影单元的位置信息，记为第二工况，并记录此时第一投影单元与第二调焦探测器，以及第二投影单元与第一调焦探测器的相对初始位置信息；S3：根据步骤S1和S2中的相对初始位置信息计算得到测量分系统中，第一投影单元与第一调焦探测器的相对初始位置；S4：当系统发生偏移，在第一工况下，记录第一投影单元与第一调焦探测器，以及第二投影单元与第二调焦探测器的实际相对位置信息；S5：在第二工况下，记录第一投影单元与第二调焦探测器，以及第二投影单元与第一调焦探测器的实际相对位置信息；S6：根据步骤S4和S5中的实际相对位置信息计算得到测量分系统中，第一投影单元与第一调焦探测器的实际相对位置，并与步骤S3中得到的相对初始位置进行对比和校准。