[发明专利]一种InAlSb薄膜中铝组分含量的测定方法及装置有效

专利信息
申请号: 201511029165.2 申请日: 2015-12-31
公开(公告)号: CN105548227B 公开(公告)日: 2019-03-22
发明(设计)人: 周朋;刘铭;折伟林;邢伟荣;尚林涛 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十一研究所
主分类号: G01N23/207 分类号: G01N23/207
代理公司: 工业和信息化部电子专利中心 11010 代理人: 梁军
地址: 100015*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种InAlSb薄膜中铝组分含量的测定方法及装置,所述方法具体包括以下步骤:在InSb衬底上生长InAlSb薄膜,测定X射线的入射角在所述InAlSb薄膜满足布喇格方程时的角度θInAlSb测量;对所述θInAlSb测量进行修正,得到θInAlSb修正;根据θInAlSb修正得到所述InAlSb薄膜的点阵常数aInAlSb;根据InSb的点阵常数aInSb、AlSb的点阵常数aAlSb,以及所述aInAlSb得到所述InAlSb薄膜中铝组分的含量,本发明的方法和装置能够在不损伤样品的前提下方便快捷的测定InAlSb薄膜中铝组分含量,测试结果也较为精确。
搜索关键词: 一种 inalsb 薄膜 组分 含量 测定 方法 装置
【主权项】:
1.一种InAlSb薄膜中铝组分含量的测定方法,其特征在于,包括以下步骤:在InSb衬底上生长InAlSb薄膜,测定X射线的入射角在所述InAlSb薄膜满足布喇格方程时的角度θInAlSb测量;对所述θInAlSb测量进行修正,得到θInAlSb修正;根据θInAlSb修正得到所述InAlSb薄膜的点阵常数aInAlSb;根据InSb的点阵常数aInSb、AlSb的点阵常数aAlSb,以及所述aInAlSb得到所述InAlSb薄膜中铝组分的含量;对θInAlSb测量进行修正,得到θInAlSb修正具体包括以下步骤:通过公式1,根据InSb衬底的点阵常数aInSb得到InSb衬底HKL等效晶面族的晶面间距dHKL‑InSb,在公式1中H=4,K=0,L=0;通过公式2,根据所述dHKL‑InSb和X射线波长λ,得到InSb衬底满足布喇格方程时的标准角度θInSb标准;λ=2dHKL‑InSbsinθInSb标准                                           公式2;测定X射线的入射角在所述InSb衬底满足布喇格方程时的角度θInSb测量,结合θInAlSb测量,通过公式3得到θInAlSb测量与θInSb测量之间的差值△θ,△θ=θInAlSb测量‑θInSb测量                                         公式3;通过公式4,根据θInSb标准和△θ得到θInAlSb修正,θInAlSb修正=△θ+θInSb标准                                       公式4。
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