[实用新型]一种带有底伸式搅拌装置的反应釜有效

专利信息
申请号: 201520013956.5 申请日: 2015-01-09
公开(公告)号: CN204485846U 公开(公告)日: 2015-07-22
发明(设计)人: 田克勤;王千祥 申请(专利权)人: 淄博三田化工装备有限公司
主分类号: B01J19/18 分类号: B01J19/18
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 王惠
地址: 255185 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型公开了一种带有底伸式搅拌装置的反应釜,属于化工设备领域。该反应釜包括反应釜本体、搅拌装置、导流筒、轴封、第一支架和第二支架;搅拌装置包括搅拌电机、联轴器、同轴的下层搅拌器和上层搅拌器;搅拌电机、联轴器设置在反应釜本体下方,同轴的下层搅拌器和上层搅拌器设置在反应釜本体内部;反应釜本体的底部中央设有开孔,下层搅拌器和上层搅拌器的搅拌轴从反应釜本体内部穿过该开孔至反应釜本体下方,通过联轴器与搅拌电机连接;导流筒罩装在上层搅拌器上方;轴封设置在开孔和搅拌轴的间隙中;第一支架设置在反应釜本体的下方,与搅拌电机固定连接;第二支架设置在反应釜本体的内部,与导流筒固定连接。该反应釜运行时不易振动。
搜索关键词: 一种 有底 搅拌 装置 反应
【主权项】:
一种带有底伸式搅拌装置的反应釜,包括反应釜本体、搅拌装置、导流筒、轴封、第一支架和第二支架;所述搅拌装置包括:搅拌电机、联轴器、同轴的下层搅拌器和上层搅拌器;所述搅拌电机、所述联轴器均设置在所述反应釜本体下方,所述同轴的下层搅拌器和上层搅拌器均设置在所述反应釜本体内部;所述反应釜本体的底部中央设置有开孔,所述同轴的下层搅拌器和上层搅拌器的搅拌轴从所述反应釜本体内部穿过所述开孔至所述反应釜本体下方,并在所述反应釜本体下方通过所述联轴器与所述搅拌电机连接;所述导流筒罩装在所述上层搅拌器上方;所述轴封设置在所述开孔和所述搅拌轴的间隙中;所述第一支架设置在所述反应釜本体的下方,并与所述搅拌电机固定连接;所述第二支架设置在所述反应釜本体的内部,并与所述导流筒固定连接。
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