[实用新型]磁控溅射用镶嵌靶材有效
| 申请号： | 201520046570.4 | 申请日： | 2015-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN204474747U | 公开（公告）日： | 2015-07-15 |
| 发明（设计）人： | 宋爱谋;钟小亮 | 申请（专利权）人： | 山东昊轩电子陶瓷材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 | 代理人： | 马俊荣 |
| 地址： | 255100 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种靶材，具体涉及一种磁控溅射用镶嵌靶材，包括基板，基板与冷却背板相连，圆柱状嵌体嵌入到基板和冷却背板的内部，圆柱状嵌体对称设置在基板上表面横向中心线的两侧，基板和冷却背板上设置有台阶孔。本实用新型结构简单，易于加工，节约材料，成本低，并可达到熔炼或粉末冶金靶材相同的溅射效果。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 镶嵌 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射用镶嵌靶材，包括基板(1)，其特征在于基板(1)与冷却背板(2)相连，圆柱状嵌体(3)嵌入到基板(1)和冷却背板(2)的内部，圆柱状嵌体(3)对称设置在基板(1)上表面横向中心线的两侧，基板(1)和冷却背板(2)上设置有台阶孔(4)。
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