[实用新型]一种降低QCL太赫兹源衍射效应及发散角的光束整形装置有效

专利信息
申请号: 201520055086.8 申请日: 2015-01-27
公开(公告)号: CN204462543U 公开(公告)日: 2015-07-08
发明(设计)人: 黎维华;王雪敏;阎大伟;沈昌乐;邓青华;王新明;彭丽萍;赵妍;蒋涛;湛治强;吴卫东 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09
代理公司: 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 代理人: 董芙蓉
地址: 621900*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型涉及一种降低QCL太赫兹源衍射效应及发散角的光束整形装置,所述装置采用光束整形模块,所述模块由多片太赫兹透镜组成,或者由太赫兹透镜与离轴抛物镜混合组成,通过调节光束整形模块光路,获得小发散角近高斯分布光束。本实用新型的有益效果是,在有效降低QCL太赫兹源由于输出端孔阑限制带来的强衍射效应的同时,可以同步减小光束发散角,获得小发散角近高斯分布光束,这将大大推进QCL太赫兹源的应用研究进程。
搜索关键词: 一种 降低 qcl 赫兹 衍射 效应 发散 光束 整形 装置
【主权项】:
一种降低QCL太赫兹源衍射效应及发散角的光束整形装置,其特征在于:所述装置采用光束整形模块,所述模块由多片太赫兹透镜组成,或者由太赫兹透镜与离轴抛物镜混合组成。
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