[实用新型]一种等离子体增强制备精密涂层的电弧离子镀设备有效
申请号: | 201520057195.3 | 申请日: | 2015-01-27 |
公开(公告)号: | CN204434722U | 公开(公告)日: | 2015-07-01 |
发明(设计)人: | 林国强;韩治昀;魏科科 | 申请(专利权)人: | 大连理工常州研究院有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C8/36;C23C28/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 213164 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种等离子体增强制备精密涂层的电弧离子镀设备,属于材料表面改性技术领域,该设备中,包括真空腔室,真空腔室底部活动安装有旋转平台,旋转平台上放置工件,旋转平台与工件偏压电源负极相连,旋转平台与真空腔室绝缘,工件偏压电源正极与真空腔室相连;真空腔室壁上固定安装有热丝装置,热丝装置的负极与热丝偏压电源负极相连,热丝偏压电源正极与真空腔室相连,热丝装置与真空腔室绝缘;所述真空腔室上固定安装有增强过滤阴极弧源;在同一设备同一数量级气压条件下连续进行离子渗氮及电弧离子镀膜的工艺,采用双级磁场线圈结构的增强过滤阴极弧源,使用高密度的Ar离子轰击硬质薄膜层,进一步磨平薄膜中的粗糙颗粒,提高层间结合力和致密度。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子体 增强 制备 精密 涂层 电弧 离子镀 设备 | ||
【主权项】:
一种等离子体增强制备精密涂层的电弧离子镀设备,包括真空腔室(9),其特征在于,所述真空腔室底部活动安装有旋转平台(8),旋转平台上放置工件(11),旋转平台与工件偏压电源(5)负极相连,旋转平台与真空腔室绝缘,工件偏压电源(5)正极与真空腔室相连;所述真空腔室壁上固定安装有热丝装置(2),热丝装置的负极与热丝偏压电源(1)负极相连,热丝偏压电源(1)正极与真空腔室相连,热丝装置与真空腔室绝缘;所述真空腔室上固定安装有增强过滤阴极弧源(3);所述真空腔室上安装有真空系统(4),所述真空腔室壁上还设置有腔室进气孔(10)。
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