[实用新型]一种微型化垂直式各向异性磁电阻元件有效

专利信息
申请号: 201520061039.4 申请日: 2015-01-28
公开(公告)号: CN204481054U 公开(公告)日: 2015-07-15
发明(设计)人: 郭一民;陈峻;肖荣福 申请(专利权)人: 上海磁宇信息科技有限公司
主分类号: H01L43/08 分类号: H01L43/08
代理公司: 上海容慧专利代理事务所(普通合伙) 31287 代理人: 于晓菁
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供一种微型化垂直式各向异性磁电阻元件,包括:磁参考层、磁记忆层、隧道势垒层、晶格优化层;其中,磁参考层的磁化方向不变且磁各向异性垂直于层表面;磁记忆层的磁化方向可变且磁各向异性垂直于层表面,隧道势垒层位于磁记忆层与磁参考层之间,晶格优化层与磁记忆层相邻;磁记忆层包括第一磁记忆层和第二磁记忆辅助层,第一磁记忆层为Co合金材料,所述Co合金材料为CoFeB、CoB或CoFeSiB,第二磁记忆辅助层为BaTiO3、PbTiO3或ZrTiO3。该微型化垂直式各向异性磁电阻元件,能够减小阻尼系数、增大电流自旋极化率、减小面积,进一步减小写电流,从而实现磁存储的微型化。
搜索关键词: 一种 微型 垂直 各向异性 磁电 元件
【主权项】:
一种微型化垂直式各向异性磁电阻元件,包括:磁参考层、磁记忆层、隧道势垒层、晶格优化层;所述磁参考层的磁化方向不变,且所述磁参考层的磁各向异性垂直于层表面;所述磁记忆层的磁化方向可变,且所述磁记忆层的磁各向异性垂直于层表面;所述隧道势垒层位于所述磁记忆层与所述磁参考层之间;所述晶格优化层与所述磁记忆层相邻;所述磁记忆层包括第一磁记忆层和第二磁记忆辅助层,第一磁记忆层和第二磁记忆辅助层为一层或多层且呈交替结构;所述第一磁记忆层为Co合金材料;所述Co合金材料为CoFeB、CoB或CoFeSiB;所述第二磁记忆辅助层为BaTiO3、PbTiO3和ZrTiO3中的一种。
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