[实用新型]一种晶片研磨抛光机下工作盘清理装置有效
| 申请号： | 201520101406.9 | 申请日： | 2015-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN204725303U | 公开（公告）日： | 2015-10-28 |
| 发明（设计）人： | 章仁上 | 申请（专利权）人： | 德清晶生光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34 |
| 代理公司： | 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 | 代理人： | 董芙蓉 |
| 地址： | 313000 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及晶片加工技术领域，尤其是一种晶片研磨抛光机下工作盘清理装置；包括研磨机研磨面板的内齿圈和外齿圈，所述内齿圈和外齿圈之间有游心轮，所述游心轮与内齿圈和外齿圈相齿合；所述游心轮上均匀排布有毛刷。有益技术效果是：研磨机研磨时，游心轮在内齿圈和外齿圈的旋转作用下，带动游心轮绕着内齿圈的轴心转动，由于游心轮上均匀排布有毛刷，可以将工作盘上的尘垢和其他杂质清理干净。在研磨的同时可以进行清理操作，不需要人工清理，省时省力，效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶片 研磨 抛光机 工作 清理 装置 | ||
【主权项】：
一种晶片研磨抛光机下工作盘清理装置，包括研磨机研磨面板的内齿圈和外齿圈，其特征在于：所述内齿圈和外齿圈之间有游心轮，所述游心轮与内齿圈以及外齿圈相齿合；所述游心轮上均匀排布有毛刷。
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