[实用新型]一种可组态重构的磁流变抛光装置有效
| 申请号： | 201520104676.5 | 申请日： | 2015-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN204565795U | 公开（公告）日： | 2015-08-19 |
| 发明（设计）人： | 陈华;黄文;吉方;何建国;罗清;唐小会;陈东生;张连新;郑永成;张云飞;魏齐龙;鱼胜利;刘坤 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B51/00 |
| 代理公司： | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人： | 翟长明;韩志英 |
| 地址： | 621999 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种可组态重构的磁流变抛光装置。本实用新型采用模块组态重构系统的设计方法设计本装置，通过大小柔性磨头与循环单元Ⅰ和循环单元Ⅱ的不同组态和系统重构，形成“大柔性磨头+循环单元Ⅰ”、“大柔性磨头+循环单元Ⅱ”、“小柔性磨头+循环单元Ⅰ”、“小柔性磨头+循环单元Ⅱ”四种具有不同加工能力、可快速组合和切换的抛光工具轴，在同一台磁流变抛光装置中实现对零件材质、加工尺度、加工精度和加工效率的广泛适应性，解决了目前单台磁流变抛光装置加工能力和加工范围受局限的问题；同时本装置通过组态重构实现设备功能单元的复用，装置可靠性高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 组态 流变 抛光 装置 | ||
【主权项】：
一种可组态重构的磁流变抛光装置，其特征在于：所述的抛光装置包括模块化的大柔性磨头单元、小柔性磨头单元、循环单元Ⅰ、循环单元Ⅱ、PLC控制单元，所述循环单元Ⅰ和循环单元Ⅱ具有磁流变液循环管路，连接循环单元Ⅰ、循环单元Ⅱ、大柔性磨头单元、小柔性磨头单元，形成磁流变液循环闭合回路； PLC控制单元控制循环单元Ⅰ和循环单元Ⅱ循环管路中的电磁阀，将“循环单元Ⅰ和大柔性磨头单元”、“循环单元Ⅰ和小柔性磨头单元”、“循环单元Ⅱ和大柔性磨头单元”、“循环单元Ⅱ和小柔性磨头单元”形成磁流变液管路传输循环回路。
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