[实用新型]减反射膜及减反射玻璃有效
| 申请号： | 201520112558.9 | 申请日： | 2015-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN204894653U | 公开（公告）日： | 2015-12-23 |
| 发明（设计）人： | 余鹏;王春平;郑建万;常小喜;汪学军;方凤军 | 申请（专利权）人： | 深圳南玻伟光导电膜有限公司 |
| 主分类号： | B32B9/04 | 分类号： | B32B9/04;B32B17/06 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 生启 |
| 地址： | 518000 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种减反射膜及减反射玻璃。该减反射膜包括依次层叠的四氮化三硅层、第一二氧化硅层、第一一氮化硅层、第二二氧化硅层及第二一氮化硅层；所述四氮化三硅层的厚度为10nm～12nm；所述第一二氧化硅层的厚度为30nm～38nm；所述第一一氮化硅层的厚度为30nm～40nm；所述第二二氧化硅层的厚度为80nm～100nm；所述第二一氮化硅层的厚度为5nm～10nm。上述减反射膜的硬度较高且绝缘性能佳。 | ||
| 搜索关键词： | 减反射膜 反射 玻璃 | ||
【主权项】：
一种减反射膜，其特征在于，包括依次层叠的四氮化三硅层、第一二氧化硅层、第一一氮化硅层、第二二氧化硅层及第二一氮化硅层；所述四氮化三硅层的厚度为10nm～15nm；所述第一二氧化硅层的厚度为50nm～65nm；所述第一一氮化硅层的厚度为35nm～45nm；所述第二二氧化硅层的厚度为90nm～105nm；所述第二一氮化硅层的厚度为5nm～10nm。
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