[实用新型]一种玻片承载单元、承载架及染色机有效
| 申请号： | 201520138000.8 | 申请日： | 2015-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN204594776U | 公开（公告）日： | 2015-08-26 |
| 发明（设计）人： | 姜刚录;邱中建;韦文秋 | 申请（专利权）人： | 姜刚录 |
| 主分类号： | G01N1/31 | 分类号： | G01N1/31 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 518000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种玻片承载单元，包括基座，还包括2个平行设置的第一挡体，该玻片承载单元还包括形成于该基座的2个以上支撑凸起，该支撑凸起与相邻第一挡体的间距在0.01厘米以上。本实用新型玻片承载单元，通过设置支撑凸起，由于支撑凸起与第一挡体之间属于镂空，根据液体表面张力的原理，玻片上的液体在该缝隙处能够在其自身重力的作用下，使液体沿着该第一挡体往下流，由于支撑凸起将玻片支撑起一定高度，因此液体不会流至玻片的背面。本实用新型的玻片承载架及染色仪，通过使用上述玻片承载单元，防止了玻片上液体流至玻片的背面，并且防止了玻片承载架上多个玻片之间样本的交叉污染等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 承载 单元 染色 | ||
【主权项】：
一种玻片承载单元，包括基座，其特征在于，还包括2个平行设置的第一挡体，所述玻片承载单元还包括形成于所述基座的2个以上支撑凸起，所述支撑凸起与相邻所述第一挡体的间距在0.01厘米以上。
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