[实用新型]一种磁控溅射设备及其阴极靶材组件有效

专利信息
申请号: 201520151396.X 申请日: 2015-03-17
公开(公告)号: CN204474752U 公开(公告)日: 2015-07-15
发明(设计)人: 彭柱根;伍能;罗洪娜 申请(专利权)人: 海南汉能薄膜太阳能有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李海建
地址: 570125 海南省海口*** 国省代码: 海南;66
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摘要: 本申请公开了一种磁控溅射设备及其阴极靶材组件,磁控溅射设备包括阴极靶材组件,其中阴极靶材组件包括阴极靶材、磁铁和冷却通道,冷却通道的长度延伸方向与阴极靶材的长度延伸方向相一致,冷却通道的宽度延伸方向与阴极靶材的宽度延伸方向相一致,冷却通道包括至少两组水口组,每组水口组均包括进水口和出水口,位于同一水口组的进水口和出水口沿着冷却通道的宽度方向相对设置,至少两组水口沿着所述冷却通道的长度方向设置。如此设置,冷却水沿着冷却通道的宽度方向流动,可以保证冷却通道内的冷却水的温度的一致性,进而可以确保阴极板材冷却效果的一致性,从而可以保证镀膜层性能的一致性。
搜索关键词: 一种 磁控溅射 设备 及其 阴极 组件
【主权项】:
一种阴极靶材组件,包括阴极靶材、磁铁和冷却通道(1),其特征在于,所述冷却通道(1)的长度延伸方向与所述阴极靶材的长度延伸方向相一致,所述冷却通道(1)的宽度延伸方向与所述阴极靶材的宽度延伸方向相一致,所述冷却通道(1)包括至少两组水口组,每组所述水口组均包括进水口(2)和出水口(3),位于同一所述水口组的所述进水口(2)和所述出水口(3)沿着所述冷却通道(1)的宽度方向相对设置,至少两组所述水口沿着所述冷却通道(1)的长度方向设置。
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