[实用新型]一种基于LabVIEW的双光栅同轴检焦装置有效

专利信息
申请号: 201520207339.9 申请日: 2015-04-02
公开(公告)号: CN204666338U 公开(公告)日: 2015-09-23
发明(设计)人: 赵传华;赵凌宇;何志勇 申请(专利权)人: 泰山医学院
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 271016 *** 国省代码: 山东;37
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摘要: 一种基于LabVIEW的双光栅同轴检焦装置,主要由基于LabVIEW的光场强度检测与检焦控制系统、位移平台系统、双光栅系统、被测系统、探测模块和电源等模块组成,装置结构包括光源、准直透镜、第一聚焦透镜、毛玻璃、反射镜、第二聚焦透镜、第一光栅板、第二光栅、CCD和计算机;利用基于LabVIEW的光场强度检测与检焦控制系统软件,对CCD采集的条纹图进行数据处理,计算功率谱,当数据处理分析第二光栅板达到焦点位置时,在计算机上显示、标记并存储相关数据,从而达到自动检焦功能。本实用新型检测速度快、精度高;结构简单,便于操作;软件实时显示当前检测的数据的功率谱,并绘制相应的动态曲线,便于数据保存和拓展应用。
搜索关键词: 一种 基于 labview 光栅 同轴 装置
【主权项】:
一种基于LabVIEW的双光栅同轴检焦装置,主要由基于LabVIEW的光场强度检测与检焦控制系统、位移平台系统、双光栅系统、被测系统、探测模块和电源模块组成,其特征在于:从光束入射方向依次包括光源(1)、准直透镜(2)、第一聚焦透镜(3)、毛玻璃(4)、反射镜(5)、第二聚焦透镜(6)、第一光栅板(7)、第二光栅(11)、CCD(13);所述的第一光栅板(7)置于第一位移平台(8)上,并位于被测光学系统(10)的物面上;所述的第二光栅(11)置于第二位移平台(12)上,并位于被测光学系统(10)的像方平面上;所述的CCD(13)位于第二光栅板(11)的后方,并通过数据接收总线(14)与计算机(16)相连;所述的被测光学系统(10)在检测时,被固定在光学系统固定架(9)上;所述的计算机(16)安装了基于LabVIEW的光场强度检测与检焦控制系统软件,用于测量过程控制,测量数据存储,对CCD采集的干涉条纹进行处理与分析,并控制压电陶瓷驱动器的运动状态。
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