[实用新型]发光装置和投影系统有效

专利信息
申请号: 201520211124.4 申请日: 2015-04-09
公开(公告)号: CN204595412U 公开(公告)日: 2015-08-26
发明(设计)人: 王则钦;李屹;郭祖强 申请(专利权)人: 深圳市光峰光电技术有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518055 广东省深圳市南山区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型适用于光学技术领域,提供了一种发光装置及投影系统,所述发光装置包括光源模组,包括出射激发光的激发光源和出射补偿光的补偿光源;色轮组件,包括沿所述色轮组件的运动方向分布的至少一分段区域,且所述色轮组件在所述激发光源和所述补偿光源的照射下出射所述补偿光和包括至少一受激光的第一光;其中所述补偿光与所述第一光中的至少一受激光存在光谱重叠,所述补偿光和与所述补偿光存在光谱重叠的受激光同时出射,且所述补偿光和与所述补偿光存在光谱重叠的受激光可相互独立调节。本实用新型可以极大的提高发光装置的亮度以及发光装置中的光利用效率。
搜索关键词: 发光 装置 投影 系统
【主权项】:
一种发光装置,其特征在于,包括:光源模组,包括出射激发光的激发光源和出射补偿光的补偿光源;色轮组件,包括沿所述色轮组件的运动方向分布的至少一分段区域,且所述色轮组件在所述激发光源和所述补偿光源的照射下出射所述补偿光和包括至少一受激光的第一光;其中所述补偿光与所述第一光中的至少一受激光存在光谱重叠,所述补偿光在与所述补偿光存在光谱重叠的受激光出射的时段内出射,所述补偿光和与所述补偿光存在光谱重叠的受激光同时出射,且所述补偿光和与所述补偿光存在光谱重叠的受激光可相互独立调节。
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