[实用新型]一种四峰值滤光片有效
| 申请号： | 201520224560.5 | 申请日： | 2015-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN204536584U | 公开（公告）日： | 2015-08-05 |
| 发明（设计）人： | 马志亮 | 申请（专利权）人： | 北京京仪博电光学技术有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02B1/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种四峰值滤光片，包括由熔融石英玻璃制成的透光基片，在所述透光基片的一侧表面上镀制滤光膜，所述滤光膜由依次镀制的四层薄膜层叠组成，第一层薄膜的厚度为1127.46nm、第二层薄膜的厚度为1193.63nm、第三次薄膜的厚度为1085.79nm、第四层薄膜的厚度为1058.84nm，所述薄膜均为由五氧化二钽和二氧化硅两种不同折射率材料交替镀膜组成的全介质薄膜层。本实用新型的有益效果是：能同时实现在四峰值工作，同时能够测量四组特征光谱信号，具有更加广泛的工作范围和更高的集成度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 峰值 滤光 | ||
【主权项】：
一种四峰值滤光片，其特征在于：包括由熔融石英玻璃制成的透光基片，在所述透光基片的一侧表面上镀制滤光膜，所述滤光膜由依次镀制的四层薄膜层叠组成，第一层薄膜的厚度为1127.46nm、第二层薄膜的厚度为1193.63nm、第三次薄膜的厚度为1085.79nm、第四层薄膜的厚度为1058.84nm，所述薄膜均为由五氧化二钽和二氧化硅两种不同折射率材料交替镀膜组成的全介质薄膜层。
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