[实用新型]一种新型的高面积效率低压触发可控硅

摘要

本实用新型公开了一种新型的高面积效率低压触发可控硅，包括P型衬底、N阱、P阱、 P+注入区、N+注入区、多晶硅栅、浅槽隔离、阴极、阳极，所述N阱包括第一N阱、第二N阱，所述N+注入区包括第一N+注入区、第二N+注入区，所述P型衬底上沿横向依次设置有第一N阱、P阱、第二N阱；所述P+注入区设置在第一N阱上，所述第一N+注入区跨设在第一N阱和P阱上，所述第二N+注入区跨设在P阱和第二N阱上；所述多晶硅栅设置在P阱上；所述P+注入区接入阳极，所述多晶硅栅和第二N+注入区均接入阴极。本实用新型用P+注入区、第一N阱、P阱3、第二N+注入区实现可控硅路径，因此面积效率高。整个防护器件结构简单，稳定可靠。

主权项

一种新型的高面积效率低压触发可控硅，包括P型衬底、N阱、P阱，其特征在于：还包括P+注入区、N+注入区、多晶硅栅、浅槽隔离、阴极、阳极，所述N阱包括第一N阱、第二N阱，所述N+注入区包括第一N+注入区、第二N+注入区，所述P型衬底上沿横向依次设置有第一N阱、P阱、第二N阱；所述P+注入区设置在第一N阱上，所述第一N+注入区跨设在第一N阱和P阱上，所述第二N+注入区跨设在P阱和第二N阱上；所述多晶硅栅设置在P阱上；所述P+注入区接入阳极，所述多晶硅栅和第二N+注入区均接入阴极；所述P+注入区和外部结构之间通过浅槽隔离进行隔离，所述P+注入区和第一N+注入区之间通过浅槽隔离进行隔离，所述第二N+注入区和外部结构之间通过浅槽隔离进行隔离。