[实用新型]具有曝光、检测、清洗和干燥功能的一体机有效
申请号: | 201520253380.X | 申请日: | 2015-04-24 |
公开(公告)号: | CN204557048U | 公开(公告)日: | 2015-08-12 |
发明(设计)人: | 蔡家豪;刘宜洲;柳宗亮;陈笑龙;余学志;邱智中;邱树添 | 申请(专利权)人: | 安徽三安光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G03F1/82 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 241000 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型涉及半导体组件的光刻领域,提出了一种具有曝光、检测、清洗和干燥功能的一体机,其包括光罩存储区、曝光-检测单元、光罩暂存区和清洗-干燥单元,其中,所述曝光-检测单元包括曝光机和检测光罩板外观的检测装置,所述检测装置位于曝光机的承载所述光罩板的光罩载台侧边;所述光罩存储区、曝光机、光罩暂存区、清洗-干燥单元依次通过传输件连接,用于传送光罩板。本实用新型采用自动化的一体机进行光罩板的曝光使用、外观检测、清洗和干燥的操作,提高了生产效率,通过改善了光罩板外观检测的区域,减少光罩板由于边缘损坏而报废的数量。 | ||
搜索关键词: | 具有 曝光 检测 清洗 干燥 功能 一体机 | ||
【主权项】:
具有曝光、检测、清洗和干燥功能的一体机,包括光罩存储区、曝光‑检测单元、光罩暂存区和清洗‑干燥单元,其特征在于:所述曝光‑检测单元包括曝光机和检测光罩板外观的检测装置,所述检测装置位于曝光机的承载所述光罩板的光罩载台侧边;所述光罩存储区、曝光机、光罩暂存区、清洗‑干燥单元依次通过传输件连接,实现光罩板的自动循环使用。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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