[实用新型]一种去耦反应离子刻蚀设备之上接地环基座接地装置有效
申请号: | 201520253685.0 | 申请日: | 2015-04-23 |
公开(公告)号: | CN204558416U | 公开(公告)日: | 2015-08-12 |
发明(设计)人: | 潘无忌;季高明;刘东升;吕煜坤;张旭升;朱骏 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种去耦反应离子刻蚀设备之上接地环基座接地装置,包括:加热器,加热器之下表面具有绝缘涂层,并用于提供工艺要求温度;上接地环基座,外包于加热器;固定螺栓,穿设在加热器和上接地环基座之间,并将加热器和上接地环基座固定设置;绝缘垫片,设置在上接地环基座与固定螺栓之间,且上接地环基座与加热器和固定螺栓之间绝缘。本实用新型通过在上接地环基座和固定螺栓之间设置绝缘垫片,使得上接地环基座和固定螺栓完全隔离,确保上接地环基座之金属底材不会发生局部外露,避免上接地环基座和加热器通过局部外露的金属底材导通产生电弧,不仅提高产品良率,而且降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 反应 离子 刻蚀 设备 之上 接地 基座 接地装置 | ||
【主权项】:
一种去耦反应离子刻蚀设备之上接地环基座接地装置,其特征在于,所述去耦反应离子刻蚀设备之上接地环基座接地装置包括:加热器,所述加热器之下表面具有绝缘涂层,并用于提供工艺要求温度;上接地环基座,外包于所述加热器;固定螺栓,穿设在所述加热器和所述上接地环基座之间,并将所述加热器和所述上接地环基座固定设置;绝缘垫片,设置在所述上接地环基座与所述固定螺栓之间,且所述上接地环基座与所述加热器和所述固定螺栓之间绝缘。
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