[实用新型]一种去耦反应离子刻蚀设备之上接地环基座接地装置有效

专利信息
申请号: 201520253685.0 申请日: 2015-04-23
公开(公告)号: CN204558416U 公开(公告)日: 2015-08-12
发明(设计)人: 潘无忌;季高明;刘东升;吕煜坤;张旭升;朱骏 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 王宏婧
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种去耦反应离子刻蚀设备之上接地环基座接地装置,包括:加热器,加热器之下表面具有绝缘涂层,并用于提供工艺要求温度;上接地环基座,外包于加热器;固定螺栓,穿设在加热器和上接地环基座之间,并将加热器和上接地环基座固定设置;绝缘垫片,设置在上接地环基座与固定螺栓之间,且上接地环基座与加热器和固定螺栓之间绝缘。本实用新型通过在上接地环基座和固定螺栓之间设置绝缘垫片,使得上接地环基座和固定螺栓完全隔离,确保上接地环基座之金属底材不会发生局部外露,避免上接地环基座和加热器通过局部外露的金属底材导通产生电弧,不仅提高产品良率,而且降低生产成本。
搜索关键词: 一种 反应 离子 刻蚀 设备 之上 接地 基座 接地装置
【主权项】:
一种去耦反应离子刻蚀设备之上接地环基座接地装置,其特征在于,所述去耦反应离子刻蚀设备之上接地环基座接地装置包括:加热器,所述加热器之下表面具有绝缘涂层,并用于提供工艺要求温度;上接地环基座,外包于所述加热器;固定螺栓,穿设在所述加热器和所述上接地环基座之间,并将所述加热器和所述上接地环基座固定设置;绝缘垫片,设置在所述上接地环基座与所述固定螺栓之间,且所述上接地环基座与所述加热器和所述固定螺栓之间绝缘。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201520253685.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top