[实用新型]一种MOCVD设备及其托盘旋转支撑结构有效
申请号: | 201520263814.4 | 申请日: | 2015-04-28 |
公开(公告)号: | CN204644467U | 公开(公告)日: | 2015-09-16 |
发明(设计)人: | 施广涛;吕青;万红 | 申请(专利权)人: | 中晟光电设备(上海)股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁;包姝晴 |
地址: | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供一种MOCVD设备及其托盘旋转支撑结构,其包含托盘及从下方对该托盘进行支撑并带动该托盘旋转的旋转轴;所述托盘的底面设置有第一凸起,其对应插入到所述旋转轴顶部设置的第一凹坑中;所述托盘的底面还设置有位于第一凸起周边的第二凸起,所述旋转轴顶部还设置有容纳第一凹坑的外缘部分,该外缘部分插入到第二凸起与托盘底面共同形成的收容空间中,使得托盘相对旋转轴转动时该外缘部分被限定在第一凸起及第二凸起之间。本实用新型能够通过第二凸起接触外缘部分,由定位凸起卡住旋转轴,以限制旋转轴和托盘之间的打滑,从而实现托盘和旋转轴之间的旋转同步,保证生长工艺的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 一种 mocvd 设备 及其 托盘 旋转 支撑 结构 | ||
【主权项】:
一种托盘旋转支撑结构,其特征在于,包含:托盘,以及从下方对该托盘进行支撑并带动该托盘旋转的旋转轴;所述托盘的底面中心设置有第一凸起,其对应插入到所述旋转轴顶部设置的第一凹坑中;所述托盘的底面还设置有位于第一凸起外围的第二凸起,所述旋转轴顶部还设置有容纳第一凹坑的外缘部分,该外缘部分插入到第一凸起、第二凸起及托盘底面共同形成的收容空间中,使得托盘相对旋转轴转动时该外缘部分被限定在第一凸起及第二凸起之间。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
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