[实用新型]曝光机的校验装置

摘要

本实用新型公开了一种曝光机的校验装置，包含上左右向移载机构；上照射部，设于上左右向移载机构且具有多个上光源；下左右向移载机构；下照射部，设于下左右向移载机构且具有多个下光源；前后向相对移载机构；上感光基板曝光平台，设于前后向相对移载机构、位于上照射部的下方且上部后侧设有一个以上的上光传感器；下感光基板曝光平台，设于前后向相对移载机构、位于下照射部的上方且下部后侧设有一个以上的下光传感器；光源调整部，控制上照射部与上感光基板曝光平台的相对移动及/或下照射部与下感光基板曝光平台的相对移动，及调整上光源及下光源为相同的照射强度或相同的照射能量。本实用新型的曝光机的校验装置提升了曝光机曝光的良率。

主权项

一种曝光机的校验装置，其包含：上左右向移载机构；上照射部，其设置于该上左右向移载机构，该上照射部具有多个上光源以向下照射；下左右向移载机构；下照射部，其设置于该下左右向移载机构，该下照射部具有多个下光源以向上照射；前后向相对移载机构，该上照射部位于该前后向相对移载机构的后部的上方，该下照射部位于该前后向相对移载机构的后部的下方；上感光基板曝光平台，其设置于该前后向相对移载机构且位于该上照射部的下方，该上感光基板曝光平台的上部后侧设置有一个以上的上光传感器，以感测这些上光源的照射强度或照射能量，该上光传感器位于该上照射部的端缘；下感光基板曝光平台，其设置于该前后向相对移载机构且位于该下照射部的上方以与该上感光基板曝光平台相对移动，该下感光基板曝光平台的下部后侧设置有一个以上的下光传感器，以感测这些下光源的照射强度或照射能量，该下光传感器位于该下照射部的端缘；以及光源调整部，其电连接该上左右向移载机构、这些上光源、该下左右向移载机构、这些下光源、该前后向相对移载机构、该上光传感器及该下光传感器，以控制该上照射部与该上感光基板曝光平台的相对移动及/或该下照射部与该下感光基板曝光平台的相对移动，及调整这些上光源及这些下光源为相同的照射强度或相同的照射能量。