[实用新型]一种高精度铜带擦拭装置

摘要

本实用新型提供了一种高精度铜带擦拭装置，其一次对铜带的两个表面进行擦拭，且通过机械化结构进行擦拭，使得擦拭效率高，且擦拭全面覆盖整条铜带，确保擦拭效果，确保后续产品的良品率，降低了制造成本。其包括底座、上盖，所述底座和上盖之间紧固连接形成空间位置，其特征在于：所述底座和上盖之间所形成的空间位置内布置有上压块、下压块，所述上压块位于所述下压块的正上方位置，所述上压块、下压块的中间段设置有擦拭布结构，所述上盖上固装有气缸，所述气缸的活塞杆贯穿所述上盖后紧固连接所述上压块，调整螺丝自下而上贯穿所述底座后分别紧固连接所述下压块的底端面的四角位置，所述上盖的两侧自上而下布置有导柱。

主权项

一种高精度铜带擦拭装置，其包括底座、上盖，所述底座和上盖之间紧固连接形成空间位置，其特征在于：所述底座和上盖之间所形成的空间位置内布置有上压块、下压块，所述上压块位于所述下压块的正上方位置，所述上压块、下压块的中间段设置有擦拭布结构，所述上盖上固装有气缸，所述气缸的活塞杆贯穿所述上盖后紧固连接所述上压块，调整螺丝自下而上贯穿所述底座后分别紧固连接所述下压块的底端面的四角位置，所述上盖的两侧自上而下布置有导柱，所述导柱的上端紧固连接所述上盖，所述导柱分别贯穿对应位置的上压块后支承于对应位置的所述下压块的上端面，待擦拭铜带的下表面支承于所述下压块所对应的擦拭布结构的上表面。