[实用新型]退镀设备有效

专利信息
申请号: 201520343398.9 申请日: 2015-05-25
公开(公告)号: CN204661849U 公开(公告)日: 2015-09-23
发明(设计)人: 苏骞;刘全胜;乌磊;李春龙;彭仕镇 申请(专利权)人: 深圳市奥美特科技有限公司
主分类号: C25D7/06 分类号: C25D7/06;C25D17/00;C25F7/02
代理公司: 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙) 44314 代理人: 张约宗;张秋红
地址: 518109 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种退镀设备,其包括用于容纳电镀液的槽体以及电极结构;该电极结构包括设置在该槽体内的一对第一电极板和一对第二电极板,该一对第一电极板和该一对第二电极板的内侧形成有一料带通路空间;该一对第一电极板分别位于该料带通路空间的左右两侧,该一对第二电极板分别位于该料带通路空间的上下两侧。实施本实用新型的技术方案,该退镀设备中设置有两组电极板,两组电极板可分别接不同整流器的正极,使得料带通路空间中的料带上的金属镀层能够快速的完成退镀,从而直接回收利用了料带上的金属,节约了生产成本,提高了企业的生产效益。
搜索关键词: 设备
【主权项】:
一种退镀设备,包括用于容纳电镀液的槽体(1)以及电极结构;其特征在于,所述电极结构包括设置在所述槽体(1)内的一对第一电极板(2)和一对第二电极板(3),所述一对第一电极板(2)和所述一对第二电极板(3)的内侧形成有一料带通路空间(4);所述一对第一电极板(2)分别位于所述料带通路空间(4)的左右两侧,所述一对第二电极板(3)分别位于所述料带通路空间(4)的上下两侧。
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