[实用新型]改进式的磁控溅射镀膜装置有效
| 申请号： | 201520344545.4 | 申请日： | 2015-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN204690096U | 公开（公告）日： | 2015-10-07 |
| 发明（设计）人： | 李楚生 | 申请（专利权）人： | 讯维数码科技（中山）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 刘兴彬;林玲 |
| 地址： | 528463 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 改进式的磁控溅射镀膜装置，该磁控溅射镀膜装置的内部形成一溅射腔，该溅射腔的相对两侧分别设置有工件安装位和靶材安装位，靶材安装位上安装有靶材，该磁控溅射镀膜装置还包括电极组件以及沿靶材的周向外侧间隔排列的多个磁铁，相邻两个磁铁之间形成的磁场中的至少一部分磁感线在靶材靠近溅射腔的表面上的投影的指向与顺时针方向一致。本实用新型在使用时，电子受磁场洛仑磁力影响被束缚在靠近靶材的周缘的磁场区域内并增加了与该区域处的氩气磁撞的机会，因此使靶材的周缘与磁场区域对应的部分容易被消耗而腐蚀形成凹坑，当靶材的凹坑达到一定深度时，可将靶材旋转一定角度，就可以将没有腐蚀过的部分对准磁场区域继续利用。 | ||
| 搜索关键词： | 改进 磁控溅射 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
改进式的磁控溅射镀膜装置，该磁控溅射镀膜装置的内部形成一溅射腔，该溅射腔的相对两侧分别设置有工件安装位和靶材安装位，靶材安装位上安装有靶材，该磁控溅射镀膜装置还包括电极组件，该电极组件用于形成一个方向从工件安装位指向靶材安装位的电场，其特征在于，该磁控溅射镀膜装置还包括沿靶材的周向外侧间隔排列的多个磁铁，相邻两个磁铁之间形成的磁场中的至少一部分磁感线在靶材靠近溅射腔的表面上的投影的指向与顺时针方向一致。
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