[实用新型]胶膜限制器有效
申请号: | 201520345897.1 | 申请日: | 2015-05-26 |
公开(公告)号: | CN204696093U | 公开(公告)日: | 2015-10-07 |
发明(设计)人: | 钱勇安 | 申请(专利权)人: | 旺矽科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677 |
代理公司: | 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 11279 | 代理人: | 王正茂;丛芳 |
地址: | 中国台湾新*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种胶膜限制器,其应用于封包设备中。胶膜限制器包含固定底座以及定位块。固定底座具有相连的第一抵靠壁以及第一斜面。定位块具有相连的第二抵靠壁以及第二斜面。第二抵靠壁与第二斜面分别面向第一抵靠壁与第一斜面。第一抵靠壁、第二抵靠壁与第二斜面形成载穴以供胶膜通过。第一抵靠壁与第二抵靠壁分别抵靠胶膜的两个侧缘。第一抵靠壁与第二抵靠壁之间具有预定间距。定位块能够在预定间距的宽度方向上相对固定底座滑动,以调整预定间距。借此,安装有本实用新型的胶膜限制器的封包设备能够更快速地配合各种宽度尺寸的载带与胶膜使用,并解决了以往必须更换整组定位块所产生的耗时与费工的问题。 | ||
搜索关键词: | 胶膜 限制器 | ||
【主权项】:
一种胶膜限制器,其应用于封包设备中,其特征在于,所述胶膜限制器包含:固定底座,其具有相连的第一抵靠壁以及第一斜面;以及定位块,其具有相连的第二抵靠壁以及第二斜面分别面向所述第一抵靠壁与所述第一斜面,所述第一抵靠壁、所述第二抵靠壁与所述第二斜面形成载穴,以供胶膜通过,并且所述第一抵靠壁与所述第二抵靠壁分别抵靠所述胶膜的两个侧缘,其中所述第一抵靠壁与所述第二抵靠壁之间具有预定间距,所述定位块能够在所述预定间距的宽度方向上相对所述固定底座滑动,以调整所述预定间距。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造