[实用新型]磁控溅射孪生旋转靶材的气体供应装置有效
| 申请号： | 201520348565.9 | 申请日： | 2015-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN204714888U | 公开（公告）日： | 2015-10-21 |
| 发明（设计）人： | 李爽;沈晓磊;许磊 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人： | 徐小蓉 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及真空镀膜领域，尤其是磁控溅射孪生旋转靶材的气体供应装置，其特征在于：所述气体供应装置至少包括若干所述气管，所述气管上的所述出气口分别对应覆盖所述靶材的部分区域，若干所述气管上的所述出气口所构成的覆盖范围包含所述靶材的全部区域。本实用新型的优点是：通过气管的数量、气管在靶材径向上的分布、出气口数量和位置来调节工作气体在靶材径向的分布，以实现均匀镀膜；结构简单合理、使用方便、适于推广。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 孪生 旋转 气体 供应 装置 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射孪生旋转靶材的气体供应装置，包括气管，所述气管上开设有出气口，其特征在于：所述气体供应装置至少包括若干所述气管，所述气管上的所述出气口分别对应覆盖所述靶材的部分区域，若干所述气管上的所述出气口所构成的覆盖范围包含所述靶材的全部区域。
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