[实用新型]处理系统及用于工艺腔室中的基板载体有效
| 申请号： | 201520355163.1 | 申请日： | 2015-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN205011826U | 公开（公告）日： | 2016-02-03 |
| 发明（设计）人： | 约翰·M·怀特;王作乾 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/50 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 黄嵩泉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本公开案涉及处理系统及用于工艺腔室中的基板载体。本文描述一种永磁掩膜夹盘。永磁掩膜夹盘包括主体，具有多个永磁体定位于所述主体内。永磁体可随后传递磁力至掩膜以在基板上方或基板上定位和固持掩膜以便进一步沉积。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 系统 用于 工艺 中的 载体 | ||
【主权项】：
一种处理系统，包含：工艺腔室，所述工艺腔室被配置以在基板上沉积材料；和永磁掩膜夹盘，所述永磁掩膜夹盘被定位于所述工艺腔室中，所述永磁掩膜夹盘包含：定位装置；多个耦接至所述定位装置的永磁体，所述定位装置被配置以控制提供给掩膜的磁力量值，以使得将所述掩膜磁性夹持在所述基板上方的适当位置中。
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