[实用新型]应用于离子束刻蚀系统的基片承载装置有效
| 申请号： | 201520358823.1 | 申请日： | 2015-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN204720414U | 公开（公告）日： | 2015-10-21 |
| 发明（设计）人： | 戴秀海;余海春;龙汝磊 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人： | 徐小蓉 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及微细加工技术领域，尤其是应用于离子束刻蚀系统的基片承载装置，其特征在于：所述装置包括旋转轴和至少两个载物台，所述载物台沿所述旋转轴的轴向间隔设置在所述旋转轴上，所述载物台可绕所述旋转轴转动，所述载物台上开设有离子束窗口。本实用新型的优点是：提高了离子束刻蚀系统单次开机所能刻蚀的基片总数量，降低了批量作业时离子束刻蚀系统的开停机次数，提高了离子束刻蚀系统利用率，减少了工时，满足刻蚀工作需要；同时也减少了因反复开停机对配套真空系统的不利影响，延长了真空系统的工作寿命，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 应用于 离子束 刻蚀 系统 承载 装置 | ||
【主权项】：
一种应用于离子束刻蚀系统的基片承载装置，其特征在于：所述装置包括旋转轴和至少两个载物台，所述载物台沿所述旋转轴的轴向间隔设置在所述旋转轴上，所述载物台可随所述旋转轴转动，所述载物台上开设有离子束窗口。
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