[实用新型]一种基于压力控制的抛光机有效
| 申请号： | 201520371153.7 | 申请日： | 2015-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN204686629U | 公开（公告）日： | 2015-10-07 |
| 发明（设计）人： | 翁强;刘清建;尤涛;王太勇 | 申请（专利权）人： | 福建省天大精诺信息有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02 |
| 代理公司： | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 | 代理人： | 林祥翔;吕元辉 |
| 地址： | 351111 福建省*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种基于压力控制的抛光机，包括：机床基座、工作台和进行抛光处理的抛光模组，所述工作台可移动地设置于机床基座上，抛光模组设置于工作台上方；所述抛光模组包括多组抛光头组，抛光头组设置于以定长上下运动的托架上；其中，每个抛光头组包括气缸、压力传感器和设置于气缸推杆末端的磨头，压力传感器设置于气缸缸套内，用于检测气缸内部压力，每个抛光头组的压力传感器和气缸均连接于用于控制气缸压力恒定的气压平衡装置。本实用新型基于压力控制的抛光机可精确控制抛光时磨头与工件表面的接触压力，从而实现雕花机械抛光，提高抛光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 压力 控制 抛光机 | ||
【主权项】：
一种基于压力控制的抛光机，其特征在于，包括：机床基座、工作台和进行抛光处理的抛光模组，所述工作台可移动地设置于机床基座上，抛光模组设置于工作台上方；所述抛光模组包括多组抛光头组，所述抛光头组设置于以定长上下运动的托架上；其中，每个抛光头组包括气缸、压力传感器和设置于气缸推杆末端的磨头，所述压力传感器设置于气缸缸套内，用于检测气缸内部压力，每个抛光头组的压力传感器和气缸均连接于用于控制气缸压力恒定的气压平衡装置。
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