[实用新型]单晶硅的清洗装置有效

专利信息
申请号: 201520391358.1 申请日: 2015-06-09
公开(公告)号: CN204672614U 公开(公告)日: 2015-09-30
发明(设计)人: 钟平 申请(专利权)人: 宁波科论太阳能有限公司
主分类号: B08B3/10 分类号: B08B3/10
代理公司: 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 代理人: 周豪靖
地址: 315111 浙江省宁波市鄞州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型所公开的一种单晶硅的清洗装置,单晶硅清洗炉为圆柱型结构,在单晶硅清洗炉内设有清洗剂,在单晶硅清洗炉的底部设有内凹台,在单晶硅清洗炉内设有作为转子的单晶硅搅拌支架,且所述的单晶硅搅拌支架底部设有与内凹台配合的内凹槽,单晶硅搅拌支架以内凹槽的上槽壁为分割点将单晶硅搅拌支架3分成上半部和下半部,上半部为筛状结构,下半部内嵌有绕内凹槽环形分布的磁铁,在单晶硅清洗炉的内凹台外设有作为定子的电磁线圈,在电磁线圈上连接有电源,在单晶硅清洗炉内凹台上设有限位轴,且上述的单晶硅搅拌支架转动套接在限位轴上。本实用新型在清洗过程中能够更好的清洗硅片,清洗完成后快速沥干清洗剂,从而提高硅片清洗效果及产品的成品率。
搜索关键词: 单晶硅 清洗 装置
【主权项】:
一种单晶硅的清洗装置,包括单晶硅清洗炉(1),所述的单晶硅清洗炉(1)为圆柱型结构,在单晶硅清洗炉(1)内设有清洗剂,其特征是:在单晶硅清洗炉(1)的底部设有内凹台(2),在单晶硅清洗炉(1)内设有作为转子的单晶硅搅拌支架(3),且所述的单晶硅搅拌支架(3)底部设有与内凹台(2)配合的内凹槽(4),所述的单晶硅搅拌支架(3)以内凹槽(4)的上槽壁(4‑1)为分割点将单晶硅搅拌支架(3)分成上半部(5)和下半部(6),所述的上半部(5)为筛状结构,下半部(6)内嵌有绕内凹槽(4)环形分布的磁铁(7),在单晶硅清洗炉(1)的内凹台(2)外设有作为定子的电磁线圈(8),在电磁线圈(8)上连接有电源(9),在内凹台(2)上设有限位轴(10),且上述的单晶硅搅拌支架(3)转动套接在限位轴(10)上。
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