[实用新型]一种转轴运行平稳的晶圆清洗装置有效
申请号: | 201520394500.8 | 申请日: | 2015-06-09 |
公开(公告)号: | CN204664187U | 公开(公告)日: | 2015-09-23 |
发明(设计)人: | 曹志欢 | 申请(专利权)人: | 曹志欢 |
主分类号: | F16C35/067 | 分类号: | F16C35/067 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 315700 浙江省宁*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种转轴运行平稳的晶圆清洗装置,包括一轴承箱,轴承箱包括:一外环套、一第一轴承、一第二轴承、一大间隔环、一小间隔环以及一挡止件,外环套设有轴向贯穿的一第一端以及一第二端,外环套设有中空的一内腔,第一端的口径小于内腔的口径,接近第二端的内腔环形设有一凹槽,第一轴承、第二轴承设在内腔内,大间隔环、小间隔环分别设在内腔内并且同时设在第一轴承、第二轴承之间,大间隔环设在小间隔环的外部周围,挡止件配合凹槽设置,防止第一轴承、第二轴承以及大间隔环、小间隔环脱离外环套。本实用新型实用性强,运作稳定。 | ||
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【主权项】:
一种转轴运行平稳的晶圆清洗装置,包括一轴承箱,其特征在于,所述轴承箱包括:一外环套、一第一轴承、一第二轴承、一大间隔环、一小间隔环以及一挡止件,所述外环套设有轴向贯穿的一第一端以及一第二端,所述外环套设有中空的一内腔,所述第一端的口径小于所述内腔的口径,接近所述第二端的所述内腔环形设有一凹槽,所述第一轴承、所述第二轴承设在所述内腔内,所述大间隔环、所述小间隔环分别设在所述内腔内并且同时设在所述第一轴承、所述第二轴承之间,所述大间隔环设在所述小间隔环的外部周围,所述挡止件配合所述凹槽设置,防止所述第一轴承、所述第二轴承以及所述大间隔环、所述小间隔环脱离所述外环套。
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