[实用新型]一种转轴运行平稳的晶圆清洗装置有效

专利信息
申请号: 201520394500.8 申请日: 2015-06-09
公开(公告)号: CN204664187U 公开(公告)日: 2015-09-23
发明(设计)人: 曹志欢 申请(专利权)人: 曹志欢
主分类号: F16C35/067 分类号: F16C35/067
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 315700 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种转轴运行平稳的晶圆清洗装置,包括一轴承箱,轴承箱包括:一外环套、一第一轴承、一第二轴承、一大间隔环、一小间隔环以及一挡止件,外环套设有轴向贯穿的一第一端以及一第二端,外环套设有中空的一内腔,第一端的口径小于内腔的口径,接近第二端的内腔环形设有一凹槽,第一轴承、第二轴承设在内腔内,大间隔环、小间隔环分别设在内腔内并且同时设在第一轴承、第二轴承之间,大间隔环设在小间隔环的外部周围,挡止件配合凹槽设置,防止第一轴承、第二轴承以及大间隔环、小间隔环脱离外环套。本实用新型实用性强,运作稳定。
搜索关键词: 一种 转轴 运行 平稳 清洗 装置
【主权项】:
一种转轴运行平稳的晶圆清洗装置,包括一轴承箱,其特征在于,所述轴承箱包括:一外环套、一第一轴承、一第二轴承、一大间隔环、一小间隔环以及一挡止件,所述外环套设有轴向贯穿的一第一端以及一第二端,所述外环套设有中空的一内腔,所述第一端的口径小于所述内腔的口径,接近所述第二端的所述内腔环形设有一凹槽,所述第一轴承、所述第二轴承设在所述内腔内,所述大间隔环、所述小间隔环分别设在所述内腔内并且同时设在所述第一轴承、所述第二轴承之间,所述大间隔环设在所述小间隔环的外部周围,所述挡止件配合所述凹槽设置,防止所述第一轴承、所述第二轴承以及所述大间隔环、所述小间隔环脱离所述外环套。
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