[实用新型]中频磁控反应溅射沉积CrN设备有效
| 申请号： | 201520406302.9 | 申请日： | 2015-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN204714890U | 公开（公告）日： | 2015-10-21 |
| 发明（设计）人： | 杜旭颖;阮志明;王大洪;曾德强;庞文峰 | 申请（专利权）人： | 深圳市正和忠信股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/00 |
| 代理公司： | 韶关市雷门专利事务所 44226 | 代理人： | 周胜明 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙岗区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种中频磁控反应溅射沉积CrN设备，包括一个密封的真空腔体，该真空腔体采用左右对称的结构，在真空腔体30°位置处设置有小凸腔用于放置离子源，在真空腔体0°位置处设置有小凸腔用于放置合金靶5和铬靶7，在该真空腔体内设置有一个圆环形的工件转架，在该工件转架上则均匀设置有若干个工件，在工件围成的内圆内设置有上下两排呈弧形对称排列的加热管，在真空腔体的90°侧面连有一个抽真空口，在真空腔体的270°位置开有炉门。全球高亮银（可替代贵金属钯、铂）颜色标准色办片具有亮度高、膜层均匀的特点；工艺稳定性及一致性较好；膜层厚度、硬度、耐腐蚀性与同行业相比有质的飞跃。 | ||
| 搜索关键词： | 中频 反应 溅射 沉积 crn 设备 | ||
【主权项】：
一种中频磁控反应溅射沉积CrN设备，包括一个密封的真空腔体，其特征是：该真空腔体采用左右对称的结构，在真空腔体30°位置处设置有小凸腔用于放置离子源，在真空腔体0°位置处设置有小凸腔用于放置合金靶5和铬靶7，在该真空腔体内设置有一个圆环形的工件转架，在该工件转架上则均匀设置有若干个工件，在工件围成的内圆内设置有上下两排呈弧形对称排列的加热管，在真空腔体的90°侧面连有一个抽真空口，在真空腔体的270°位置开有炉门。
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