[实用新型]用于管内壁镀膜的装置有效
申请号: | 201520448844.2 | 申请日: | 2015-06-26 |
公开(公告)号: | CN204779803U | 公开(公告)日: | 2015-11-18 |
发明(设计)人: | 王坤;李建 | 申请(专利权)人: | 核工业西南物理研究院;成都理工大学工程技术学院 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513 |
代理公司: | 核工业专利中心 11007 | 代理人: | 刘昕宇 |
地址: | 610041 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于管内壁镀膜的装置,包括电源和能够插入待镀管内的内电极,内电极为双层结构,内层为导电体,外层为介质层,使用状态下,内电极设置在待镀管内并连接至电源,待镀管由导电材料制成亦连接至电源,通电状态下,在内电极和待镀管之间产生介质阻挡放电,激励气体原料产生等离子体,实现薄膜沉积。本实用新型还公开了采用上述用于管内壁镀膜的装置进行管内壁镀膜的方法。本实用新型的用于管内壁镀膜的装置及方法,是采用表面带有介质层的内电极与导电的待镀管组成介质阻挡放电结构形式,使发明的装置可以在高气压、甚至在大气压下实现均匀放电,进而利用高频高电压电源激励产生均匀等离子体或相对均匀等离子体,实现金属管内壁薄膜沉积。 | ||
搜索关键词: | 用于 内壁 镀膜 装置 | ||
【主权项】:
用于管内壁镀膜的装置,其特征在于:包括电源和能够插入待镀管(2)内的内电极(1),所述内电极(1)为双层结构,内层为导电体(11),外层为介质层(12),使用状态下,所述内电极(1)设置在所述待镀管(2)内并连接至所述电源,所述待镀管(2)由导电材料制成亦连接至所述电源,通电状态下,在所述内电极(1)和所述待镀管(2)之间产生介质阻挡放电,激励气体原料产生等离子体,实现薄膜沉积。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的