[实用新型]过滤装置、过滤系统及半导体机台有效
| 申请号： | 201520463417.1 | 申请日： | 2015-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN204696089U | 公开（公告）日： | 2015-10-07 |
| 发明（设计）人： | 吴良辉 | 申请（专利权）人： | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;B01D46/10;B01D5/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种过滤装置、过滤系统以及半导体机台，其中，过滤装置包括：主体结构，所述主体结构的一端设置有进气口，另一端设置有出气口；冷凝柱，所述冷凝柱位于所述主体结构内；过滤网，所述过滤网位于所述冷凝柱和所述主体结构的内壁之间，所述过滤网的一端与所述出气口连接。反应腔中的废气从主体结构的进气口进入到主体结构中，废气中的粉尘被过滤网过滤掉，而废气中液态副产物经过冷凝柱的冷凝沉积在所述冷凝柱上，降低了废气中液态以及固态制程副产物的浓度，从而使得进入泵中的气体更加清洁，降低了所述泵因液态或者固态制程副产物卡死而失效的风险，提高了效率和产品的良率，降低了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 过滤 装置 系统 半导体 机台 | ||
【主权项】：
一种过滤装置，其特征在于，包括：主体结构，所述主体结构的一端设置有进气口，另一端设置有出气口；冷凝柱，所述冷凝柱位于所述主体结构内；过滤网，所述过滤网位于所述冷凝柱和所述主体结构的内壁之间，所述过滤网的一端与所述出气口连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
