[实用新型]一种可外调节磁场的磁控溅射靶有效

专利信息
申请号: 201520470579.8 申请日: 2015-07-03
公开(公告)号: CN204849010U 公开(公告)日: 2015-12-09
发明(设计)人: 彭林;刘敏;金云华;李抚龙 申请(专利权)人: 爱蓝天高新技术材料(大连)有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 116000 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种可外调节磁场的磁控溅射靶,属于磁控溅射镀膜领域,主要包括靶体和导磁体,以及在靶体内部设有可调轴和压套,通过O型密封圈进行密封设计,减少了以往因为磁场强度不均匀需要调节的反复拆装问题,通过结构设计,可以不必拆装就能进行磁场强度大小的调节,减少了人工的同时,也降低了劳动强度。
搜索关键词: 一种 外调 磁场 磁控溅射
【主权项】:
一种可外调节磁场的磁控溅射靶,主要包括靶体(1)和导磁体(2),其特征在于,所述的靶体(1)下端设有通孔(3),在靶体(1)内设有调节轴(4),调节轴(4)的下端位于通孔(3)内,锁紧螺母(5)通过压套Ⅲ(6)安装在通孔(3)内且与调节轴(4)的下端固定,所述的调节轴(4)上设有压套Ⅰ(7)和压套Ⅱ(8),压套Ⅰ(7)和压套Ⅱ(8)之间设有O型密封圈(9)且压套Ⅰ(7)位于压套Ⅱ(8)的上方,压套Ⅰ(7)通过螺栓(11)固定在靶体(1)内,压套Ⅰ(7)与靶体(1)之间设有O型密封圈(9),导磁体(2)通过可调支撑板(10)安装在调节轴(4)上,所述的导磁体(2)通过螺柱(12)安装在所述的可调支撑板(10)上并且通过螺母(13)将其固定。
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