[实用新型]化学气相沉积法制备石墨烯的高温炉设备

摘要

本实用新型涉及一种化学气相沉积法制备石墨烯的高温炉设备，其中包括。采用该种结构的所述的设备包括：高温炉组件、可滑动导轨组件、真空混气组件，包括混气架、真空泵机组、混气元件，所述的真空泵机组与混气组件安装于混气架内，所述的高温炉组件在加热过程中位于混气架的正上方，在加热完成后沿着导轨直接移至导轨的另一端。采用了该实用新型中的化学气相沉积法制备石墨烯的高温炉设备，采用滑动与真空相结合的模式，以化学气相沉积法制备石墨烯，这种制备方式可以满足在制备过程中迅速冷却的要求，更加有效的制备石墨烯片，并且通过滑动控制可以减少对样品的震动，绝对的密封空间大大提高了设备的安全性与有效性，并且结构简单易于使用。

主权项

一种化学气相沉积法制备石墨烯的高温炉设备，其特征在于，所述的设备包括：高温炉组件，包括加热炉体、设置于所述的加热炉体内部的耐高温反应管和密封元件，其中所述的耐高温反应管和密封元件组合成一个密闭空间；可滑动导轨组件，包括底架、导轨和相对于所述的导轨可滑动的滑块，所述的加热炉体固定于所述的滑块上，所述的导轨固定在所述的底架上；真空混气组件，包括混气架、真空泵机组、混气元件，所述的真空泵机组与混气元件安装于混气架内，所述的混气元件由多路进气管道和混气装置组成，所述的多路进气管道一端与所述的混气装置连接，一端与所需通入的气体源连接；所述的混气架设置于所述的底架下方，所述的真空泵机组与所述的密封元件的抽真空口连接，混气元件与密封元件的进气口连接，在加热过程中，所述的高温炉组件位于所述的混气架的正上方，在加热完成后，所述的高温炉组件沿着导轨移至导轨的远离混气架一端。