[实用新型]一种硅片清洗单元有效
| 申请号： | 201520481106.8 | 申请日： | 2015-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN204769666U | 公开（公告）日： | 2015-11-18 |
| 发明（设计）人： | 孙显强 | 申请（专利权）人： | 温州市赛拉弗能源有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 325011 浙江省温*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种硅片清洗单元，其中，包括：清洗装置，所述清洗装置包括清洗槽、喷淋装置和输送机构，所述喷淋装置设置在清洗槽上，所述输送机构设置在喷淋装置内；过滤装置，所述过滤装置包括过滤槽和过滤网，所述过滤槽设置在清洗槽上，所述过滤网设置在过滤槽内。本实用新型结构布局合理紧凑，清洗速率高、自动化程度高、操作方便，清洗效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 清洗 单元 | ||
【主权项】：
一种硅片清洗单元，其特征在于，包括：清洗装置(1)，所述清洗装置(1)包括清洗槽(11)、喷淋装置和输送机构，所述喷淋装置设置在清洗槽(11)上，所述输送机构设置在喷淋装置内；过滤装置(2)，所述过滤装置(2)包括过滤槽(21)和过滤网(24)，所述过滤槽(21)设置在清洗槽(11)上，所述过滤网(24)设置在过滤槽(21)内。
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