[实用新型]触控装置有效
申请号: | 201520486654.X | 申请日: | 2015-06-28 |
公开(公告)号: | CN204904291U | 公开(公告)日: | 2015-12-23 |
发明(设计)人: | 张恪维;孟红伟;程炮;何伟庆 | 申请(专利权)人: | 瑞世达科技(厦门)有限公司 |
主分类号: | G06K9/00 | 分类号: | G06K9/00;G06F3/041 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361009 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型提供一种触控装置,包含一承载结构及一触控感应结构。承载结构包括一薄膜层以及一第一介电结构。第一介电结构由溅镀技术制作,并具有相互叠置的一低折射率层及一高折射率层。低折射率层设置于该薄膜层,并具有小于该高折射率层的折射率;高折射率层设置于低折射率层,并与薄膜层分别位于低折射率层的两相反侧。触控感应结构设置于第一介电结构,并与该薄膜层位于该第一介电结构的两相反侧。借此提升其膜厚均匀性及附着性,提升薄膜之光学效能。 | ||
搜索关键词: | 装置 | ||
【主权项】:
一种触控装置,其特征在于,包含:一承载结构,包括一薄膜层,一溅镀而成的第一介电结构,具有相互叠置的一低折射率层及一高折射率层,该低折射率层设置于该薄膜层,并具有小于该高折射率层的折射率;该高折射率层设置于该低折射率层,并与该薄膜层分别位于该低折射率层的两相反侧;及一触控感应结构,设置于该第一介电结构,并与该薄膜层位于该第一介电结构的两相反侧。
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