[实用新型]一种溅射镀膜装置

摘要

本实用新型公开了一种溅射镀膜装置，所述网罩通过螺栓与镀膜腔室固定连接，所述阳极板框设置在腔体的底部，所述阴极盖设置在腔体的顶部，所述真空进气装置设置在腔体的顶部上，所述控制器安装在腔体右侧的上部。该溅射镀膜装置，挡板组件用于遮挡腔体的底部，以及传递辊的侧部，可在溅镀过程中，防止阴极溅出的原子沉积在传递辊上或者腔体的底部，避免沉积物污染阳极或者传递辊等物件，由此保证玻璃的镀膜效率与良率；控制器能够对真空溅射镀膜装置中的电流大小控制，从而控制粒子的运动速度和轨迹，因此能够达到最佳镀膜的效果；通过在镀膜腔室的内部安装了以可拆装方式的网罩，在减少掉渣的同时，更容易清洁，维护成本低。

主权项

一种溅射镀膜装置，包括腔体(1)、网罩(2)、镀膜腔室(3)、靶材(4)、传递辊(5)、挡板组件(6)、阴极盖(7)、阳极板框(8)、密封件(9)、进口(10)、出口(11)、真空进气装置(12)、控制器(13)，其特征在于：所述镀膜腔室(3)设置在腔体(1)的内部，所述网罩(2)由连接钢板(21)、连接孔(22)、矩形通孔(23)和不锈钢网(24)组成，所述网罩(2)通过螺栓与镀膜腔室(3)固定连接，所述连接孔(22)设置在连接钢板(21)的顶面上，所述矩形通孔(23设)置在连接钢板(21)的顶面上，且矩形通孔(23)间隔设置在连接孔(22)之间，所述不锈钢网(24)通过焊接与连接钢板(21)固定连接，所述阳极板框(8)设置在腔体(1)的底部，所述传递辊(5)和挡板组件(6)均设置在阳极板框(8)内，且挡板组件(6)间隔设置在传递辊(5)之间，所述阴极盖(7)设置在腔体(1)的顶部，所述靶材(4)设置在阴极盖(7)内，所述密封件(9)设置在阴极盖(7)与阳极板框(8)之间，所述进口(10)设置在腔体(1)左侧的中部上，所述出口(11)设置在腔体(1)的右侧，所述真空进气装置(12)设置在腔体(1)的顶部上，所述控制器(13)安装在腔体(1)右侧的上部。