[实用新型]带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉

摘要

本实用新型涉及一种带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉，包括控制电镀炉进行电镀的中央控制单元、圆筒状电镀炉炉体、设于电镀炉炉体内上方顶部的电镀伞、以及在电镀炉炉体内一侧底部设置并与中央控制单元相互电连接的电热盘，还包括用于旋转的叶片、隔热板和驱动用的电机。本实用新型的带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉，可以通过调整叶片旋转的速度在电镀的过程中对电热盘内挥发的电镀物质气体进行吹散，使电镀物质挥发物不能随着热流竖直地上升到电镀伞的下表面，不会使电镀伞下表面与电热盘对应的位置电镀层最厚，从而避免电镀后电镀层不均匀问题，可以充分利用所有的电镀料，保证电镀质量的稳定性。

主权项

一种带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉，包括控制电镀炉进行电镀的中央控制单元、圆筒状的电镀炉炉体、设于电镀炉炉体内上方顶部的电镀伞、以及在电镀炉炉体内一侧的底部设置并与中央控制单元相互电连接的电热盘，被电镀的产品固定于电镀炉炉体内电镀伞的下方，且被电镀产品的被电镀面朝向下方设置，其特征在于：还包括用于旋转的叶片、隔热板和驱动用的电机，所述的电机隔着隔热板在电镀炉炉体外侧与电镀炉炉体密封性固定连接，上述电机的转动轴穿过隔热板和电镀炉炉体上所设的轴孔伸入电镀炉炉体内，所述的叶片与转动轴相互固定，该叶片的轴流出风面朝向电热盘，所述的电机与上述的中央控制单元相互。