[实用新型]写真机墨栈系统有效
| 申请号： | 201520514903.1 | 申请日： | 2015-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN204774129U | 公开（公告）日： | 2015-11-18 |
| 发明（设计）人： | 鲁伟 | 申请（专利权）人： | 杭州御澜科技有限公司 |
| 主分类号： | B41J25/00 | 分类号： | B41J25/00;B41J2/175 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 郑兴旺 |
| 地址： | 311100 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种写真机墨栈系统，包括有滑轨和滑移板，所述滑移板在滑轨上左右滑移，且所述滑移板在滑移过程中升降，所述滑轨与滑移板间设置有复位件，所述滑移板上至少设置有一墨栈。墨栈设于滑移板背离滑移块的一端，解决了墨栈系统结构复杂以及容易发生与喷头位置偏离的问题，其技术方案要点包括有滑轨和滑移板，所述滑移板在滑轨上左右滑移，且所述滑移板在滑移过程中升降，所述滑轨与滑移板间设置有复位件，所述滑移板上至少设置有一墨栈。墨栈设于滑移板背离滑移块的一端，达到了结构简单，墨栈不会与喷头发生偏离以及防止喷头表面水凝结和喷头堵塞的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 写真 机墨栈 系统 | ||
【主权项】：
一种写真机墨栈系统，其特征是：包括有滑轨和滑移板，所述滑移板在滑轨上左右滑移，且所述滑移板在滑移过程中升降，所述滑轨与滑移板间设置有复位件，所述滑移板上至少设置有一墨栈，墨栈设于滑移板背离滑移块的一端，所述滑移板设置有墨栈的端面上还设置有推块。
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