[实用新型]一种真空镀膜设备有效
| 申请号： | 201520520042.8 | 申请日： | 2015-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN204918740U | 公开（公告）日： | 2015-12-30 |
| 发明（设计）人： | 林朝宗 | 申请（专利权）人： | 益固（上海）真空设备科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 上海世贸专利代理有限责任公司 31128 | 代理人： | 章肇基 |
| 地址： | 201709 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空镀膜设备，包括真空室，其特征在于所述真空室与真空系统连接，真空室内呈圆形分布有内外两圈安装靶位，内外两圈安装靶位之间装有工件架，安装靶位上安装有电弧靶源或溅射靶源。本实用新型利用电弧靶源与溅射靶源复合沉积金属涂层，克服金属与陶瓷之间结合力不强的缺点，使经过微弧氧化的铝材表面实现金属色泽及质感，增加产品的附加价值。本实用新型的优点在于利用该设备对能够使金属涂层紧密结合在经过微弧氧化处理的铝基材表面，不易脱落，因此提高了表面硬度和耐磨性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 设备 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜设备，包括真空室，其特征在于所述真空室与真空系统连接，真空室内呈圆形分布有内外两圈安装靶位，内外两圈安装靶位之间装有工件架，安装靶位上安装有电弧靶源或磁控溅射靶，真空系统包括与真空室连接的高真空分子泵，与高真空分子泵连接的旋片式机械泵以及罗茨泵，所述真空室和真空系统均与设置在真空室外的供电系统连接。
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